HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®的UV-NIL紫外光納米壓印系統。EVG的HERCULES®NIL產品系列HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®UV-NIL系統達200毫米對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL®印跡技術HERCULESNIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟蹤解決方案，適用于ZUI大200mm的晶圓，是EVG的NIL產品組合的ZUI新成員。HERCULESNIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULESNIL變成了“一站式服務”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經過完全處理的納米結構晶圓退回。SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。紫外光納米壓印出廠價
EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術在大體積增強現實/混合現實玻璃制造中已就緒聯合工作將在EVG的NILPhotonics®能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓印（NIL）技術創新孵化器，同時也是全球為一可及的300-mm光刻/納米壓印技術線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統（MEMS）、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備領仙供應商EV集團（EVG）金日宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領域的世界領仙技術集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓印（NIL）技術在下一代增強現實/混合現實（AR/MR）頭戴顯示設備的波導/光導制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL®工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics®能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應用SmartNIL®UV-NIL技術的EVG®HERCULES®。紫外光納米壓印出廠價納米壓印設備哪個好？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。
EVG®720自動SmartNIL®UV納米壓印光刻系統自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL®技術EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識，能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結構，具有無人能比的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（DOEs）。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網，獲得更多信息。
EVG®520HE熱壓印系統特色：經通用生產驗證的熱壓印系統，可滿足蕞高要求EVG520HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑蕞大為200mm的基板，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。如果需要詳細的信息，請聯系岱美儀器技術服務有限公司。EVG的納米壓印設備包括不同的單步壓印系統，大面積壓印機以及用于高效母版制作的分步重復系統。
SmartNIL是行業領仙的NIL技術，可對小于40nm*的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現無人可比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。注：*分辨率取決于過程和模板。如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。EVG的納米壓印光刻（NIL）-SmartNIL?是用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。MEMS納米壓印可以試用嗎
EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統，使用分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。紫外光納米壓印出廠價
EVG®720特征：體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度專有SmartNIL®技術，多使用聚合物印模技術集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式可選的頂部對準可選的迷你環境適用于所有市售壓印材料的開放平臺從研發到生產的可擴展性系統外殼，可實現ZUI佳過程穩定性和可靠性技術數據晶圓直徑（基板尺寸）75至150毫米解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率LED（i線）>400mW/cm2對準：可選的頂部對準自動分離：支持的迷你環境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的紫外光納米壓印出廠價